Mit innovativer Lasertechnik lassen sich jetzt auch Resiste für Mikro-Komponenten schnell, preisgünstig und auf den Mikrometer (Strukturbereich von < 1  bis > 100 Mikrometern) genau erstellen. Ein neu entwickeltes System belichtet einzelne Trays direkt mit dem Laser.
 
Das Verfahren geht auf eine Kooperation von LPKF mit der slowenischen Aresis und der Universität Ljubljana zurück. Beim ProtoLaser LDI schreibt ein scannergeführter Laserstrahl maskenlos Strukturen direkt, schnell und präzise auf fotoempfindliche Resiste.

Neben der Herstellung von Mikrofluidiken eignet sich LDI auch für MEMS, BioMEMS, integrierte Optiken und für photonische Experimente mit mikroskaligen Strukturen. Eine Besonderheit: Der Laserstrahl lässt sich per Software auf einen Fokusdurchmesser von 1 µm oder 3 µm einstellen, so dass größere Freistellungen schnell durchgeführt werden können.

Die maskenlose UV-Laserdirektbelichtung (Laser Direct Imaging, LDI) fotosensitiver Resiste bietet gegenüber klassischen Maskenprojektionsverfahren große Vorteile. So profitieren insbesondere Forschung und Entwicklung in Mikrofluidik und Mikromechanik von LPKF-LDI als schnelles Prototyping-Verfahren: Labs-on-a-Chip unterstützen die Miniaturisierung von Prozessen sowie die Reduktion von Flüssigproben und Abfall.

LDI hat somit Potenzial in Medizin, Biologie, Chemie und Physik. Die Anwendungen sind vielseitig – von Blut- und Zellanalysen, über medizinische Diagnostik und Screening, Sensoren, chemische Synthesen bis hin zu physikalischen Experimenten.

Gegenüber der vor allem für Großserien eingesetzten Maskenlithografie punktet der neue ProtoLaser LDI bei der Herstellung mikrofluidischer Komponenten durch Flexibilität und Wiederholgenauigkeit. Der Verzicht auf Masken reduziert die Herstellungszeit und -kosten erheblich. Im Vergleich zum Elektronenstrahlverfahren überzeugt LDI durch deutlich schnelleres, schwankungsfreies Strukturieren sowie niedrigere Systemkosten.